

產(chǎn)品描述
1真空腔室:采用立式、U形、前開(kāi)門結(jié)構(gòu),前開(kāi)門結(jié)構(gòu)方便取、放樣品及真空腔室日常維護(hù)。
2 蒸發(fā)源:配6組蒸發(fā)源(金屬蒸發(fā)源2組,有機(jī)蒸發(fā)源4組),也可根據(jù)具體需求組合配置;
3 真空系統(tǒng):采用“分子泵+機(jī)械泵”真空系統(tǒng);高真空插板閥;
4 真空測(cè)量:“兩低一高”(兩只電阻規(guī)測(cè)量低真空,一只電離規(guī)測(cè)量高真空) 數(shù)顯復(fù)合真空計(jì),測(cè)量范圍從1×105Pa到1×10-5Pa;
5 基片臺(tái):抽屜式結(jié)構(gòu),承載較大120×120mm,加熱溫度300±1℃,轉(zhuǎn)速0~20r/min連續(xù)可調(diào);載物臺(tái)采用硬鋁,并配有簧片夾具,基片置于蒸發(fā)源正上方,根據(jù)基片尺寸設(shè)計(jì)工裝,方便固定樣品,配有基片臺(tái)擋板。
6 膜厚儀:膜厚儀水冷探頭安裝在基片架上基片臺(tái)附近。膜厚儀用以實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)鍍膜速率和終厚,精度可達(dá)±0.1A(0.01nm),具備與電源聯(lián)鎖功能,工作時(shí),若鍍膜達(dá)到設(shè)置厚度,可自動(dòng)切斷電源,停止鍍膜;
7 控制系統(tǒng):整套控制系統(tǒng)采用PLC+觸摸屏控制,有自動(dòng)及手動(dòng)兩種功能,可在觸摸屏上輸入?yún)?shù)以便進(jìn)行鍍膜工藝參數(shù)的摸索等;
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