1真空腔室：采用立式、U形、前開(kāi)門結(jié)構(gòu)，前開(kāi)門結(jié)構(gòu)方便取、放樣品及真空腔室日常維護(hù)。

2 蒸發(fā)源：配6組蒸發(fā)源（金屬蒸發(fā)源2組，有機(jī)蒸發(fā)源4組），也可根據(jù)具體需求組合配置；

3 真空系統(tǒng)：采用“分子泵+機(jī)械泵”真空系統(tǒng)；高真空插板閥；

4 真空測(cè)量：“兩低一高”（兩只電阻規(guī)測(cè)量低真空，一只電離規(guī)測(cè)量高真空） 數(shù)顯復(fù)合真空計(jì)，測(cè)量范圍從1×10⁵Pa到1×10^-5Pa；

5 基片臺(tái)：抽屜式結(jié)構(gòu)，承載較大120×120mm，加熱溫度300±1℃，轉(zhuǎn)速0～20r/min連續(xù)可調(diào)；載物臺(tái)采用硬鋁，并配有簧片夾具，基片置于蒸發(fā)源正上方，根據(jù)基片尺寸設(shè)計(jì)工裝，方便固定樣品，配有基片臺(tái)擋板。

6 膜厚儀：膜厚儀水冷探頭安裝在基片架上基片臺(tái)附近。膜厚儀用以實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)鍍膜速率和終厚，精度可達(dá)±0.1A（0.01nm）,具備與電源聯(lián)鎖功能,工作時(shí),若鍍膜達(dá)到設(shè)置厚度,可自動(dòng)切斷電源,停止鍍膜；

7 控制系統(tǒng)：整套控制系統(tǒng)采用PLC+觸摸屏控制，有自動(dòng)及手動(dòng)兩種功能，可在觸摸屏上輸入?yún)?shù)以便進(jìn)行鍍膜工藝參數(shù)的摸索等；